北方华创发布SICRIUS PY302系列12英寸低压化学气相沉积设备,突破高深宽比填充《与原子级薄膜均匀性技》术,助力半导体量产

北方华创新推出的SICRIUS PY302系列12英寸低压化学气相硅沉积立式炉设备,已在高端半导体制造领域取得重大技术突破。该设备针对逻辑芯片与存储芯片制造中的非晶硅、多晶硅薄膜沉积需求,成功解决了高深宽比结构填充、高平坦度薄膜生长及低温工艺兼容性等关键技术难题。

在三维集成芯片制造时代,随着堆叠层数增加带来的高深宽比挑战,传统填充工艺易产生孔洞缺陷的问题日益凸显。SICRIUS PY302系列凭借其创新的低压反应腔技术和多区独立高精度温控系统,实现了自下而上的无缺陷填充,为头部芯片制造企业提供了可靠的量产保障。

在栅极制造环节,该设备采用全自主设计的全石英腔室与高精度温控系统,结合先进的气体流场与热场协同控制算法,将薄膜均匀性和表面粗糙度控制在原子级别。同时,设备集成了多种硅源前驱体,支持原位清洗、刻蚀及多元素掺杂等先进工艺,显著降低了器件缺陷率。

目前,该系列设备已通过多家领先晶圆厂的严格验证,在先进逻辑与存储芯片制造中实现规模量产,并获得持续订单。2024年,北方华创薄膜沉积设备业务收入突破100亿元,产品线涵盖PVD、CVD、ALD、EPI及ECP等全系列技术。

公司批量销售的CVD设备包括:12英寸PECVD设备,适用于多种介质薄膜沉积;12英寸HDPCVD设备,具备优异的高深宽比填孔能力;12英寸LPCVD设备,满足精密结构填充需求;以及8英寸MOCVD设备,服务于功率器件、光电子等领域的外延生长。

据行业数据显示,薄膜沉积设备在集成电路设备投资中占比达22.1%,是半导体制造的核心装备。北方华创通过持续技术创新,正在为全球半导体产业提供更高效的设备解决方案。

妙手大仙医

0、8、《神医在都市》作者是:复仇;9、《妙手药师》作者是:肥刘;10、《仙道医生》作者是:藏剑隐士。

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