北方华创发布SICRIUS PY302系列12英寸低压化学气相沉积设备,突破高深宽比填充与原子(级膜厚控制技)术

北方华创最新推出的SICRIUS PY302系列12英寸低压化学气相硅沉积立式炉设备,已在高端半导体制造领域取得重大突破。该系列设备专为逻辑芯片和存储芯片的非晶硅、多晶硅薄膜沉积工艺设计,成功解决了高深宽比结构填充、高平坦度薄膜生长及低温工艺兼容性等关键技术难题。

在三维集成芯片制造日益普及的背景下,SICRIUS PY302系列凭借其创新的低压反应腔技术和多区独立温控系统,实现了无缺陷的垂直结构填充,有效避免了传统工艺中常见的孔洞问题。这一技术突破为半导体龙头企业的大规模量产提供了可靠保障。

针对高端芯片栅极制造中的薄膜平坦度挑战,该设备采用全石英腔室设计配合精密温控系统,通过优化气体流场与热场控制算法,将膜厚均匀性和表面粗糙度控制在原子级别。同时,设备集成了多种先进工艺功能,包括原位清洗、刻蚀及多元素掺杂等,显著降低了器件缺陷率。

目前,SICRIUS PY302系列已通过多家顶级晶圆厂的严格验证,在先进逻辑与存储芯片制造中实现规模量产,并持续获得市场认可。

北方华创2024年薄膜沉积设备业务表现亮眼,营收突破100亿元大关。作为半导体制造的核心装备,薄膜沉积设备在集成电路设备投资中占比达22.1%。公司已建立起涵盖物理气相沉积、化学气相沉积、原子层沉积等全系列产品线。

公司主要量产设备包括:12英寸PECVD设备,适用于多种介质薄膜沉积;12英寸HDPCVD设备,专攻高深宽比沟槽填充;12英寸LPCVD设备,满足接触孔和通孔填充需求;以及8英寸MOCVD设备,服务于功率器件、光电子等领域的外延生长。

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思路清奇

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